Labore Verfahrenstechnik/ Oberflächentechnik

Haus 5 | Technikumplatz 17a | Maschinenbaulaboratorium Gerhard-Neumann-Bau

Labor für Korrosionsprüfung

Raum 5-103 A

Allgemein:

Korrosionsprüfung

Diskontinuierliche Stückverzinkung

Technische Ausstattung:

  • Salzsprühnebelkammer für die Korrosionsprüfung von Bauteilen
  • Feuerverzinkungsanlage Tiegelofen SO 3071 LM-412.07
    • Laboraufbau

Labor für Galvanik

Raum 5-105 A | Raum 5-106 A

Allgemein:

Physikalische, chemische und elektrochemische Oberflächenvorbehandlungsverfahren

Galvanische und Chemisch - Reduktive Metallisierungen

Eloxieren

Brünieren

Technische Ausstattung:

  • Handgalvanikanlage, bestehend aus 20 l- Behältern
  • Plasmaanlagen (Nieder- u. Atmosphärendruck)
  • Potentiostaten
  • Computergesteuerte Puls-/ Gleichstromquellen

Nutzung / Anwendungsgebiete:

  • Beizen und Dekapieren 
  • Entfettungen (Abkoch-, Ultraschall-, elektrolytische)
  • Chemisch-Reduktive Abscheidung von Nickel
  • Galvanisch Kupfer und Nickel
  • Kolloidale und ionogene Kunststoffaktivierung
  • Kunststoffmetallisierung
  • Eloxieren und Färben durch Farbstofflösung von Aluminium
  • Brünieren von Stahl
  • Ultraschallunterstütze Abscheidung
  • Dispersionsabscheidung
  • Plasmavorbehandlung

Labor für Strukturierung

Raum 5-206 A

Allgemein:

Strukturierung von Kupfer-Oberflächen

Technische Ausstattung:

  • Lehranlage Fotolithografie:
    • Laminator
    • Belichtungsgerät RISTON PC Printer B24
    • Resiststripper
  • Vakuum-Trockner 
  • Trockenschrank 
  • Entwickler

Labor für Badüberwachung und Materialcharakterisierung

Raum 5-209 A

Allgemein:

Messen und Auswerten von Werkstoffen und Schichten

Prüfung von Verschleissverhalten und Schichthaftung

Technische Ausstattung:

  • Röntgenfluoreszenzanalyse zur qualitativen und quantitativen Auswertung von Materialzusammensetzungen
  • Digitalmikroskop
  • Verschleißprüfungen in Form von:
    • Kalottenschleifgerät
    • Taber Abrasionstest
  • UV/Vis-Labor-Spektralphotometer
  • Couloscope CMS für die Messung von Schichtdicken und elektronischen Potentialen nach dem coulometrischen Verfahren
    • Typischer Dicken-Bereich 0,05 - 40 µm
  • getrennte Zelle aus Glas zur exakten Untersuchung der getrennten Reaktionen und Abläufe einer Redoxreaktion, mit einbaubarer Membran